JH-1020 Single Silicon Wafer Cleaning / Silicon Slice Detergent PH 12,0-14,0

1. Kort
Detta är patentprodukter för avfettning av elektronnivå och kiselskiva av solenergi i IT- och solbatteriområdet, och patentnumret är ZL200710020269.6.Produkten innehåller dubbelgrupp med bra prestanda vid emulsionsförtvålningsutbildning till talgvegetabilisk olja, mineralolja, flytande malning förbi, även vid stripingkomplexbildning till metalljon.

2. Funktion
1) engruppsprodukter med perfekt PPR (prestandaprisförhållande)
2) vara fri från kalcium, magnesium, metall, koppar, bly och fosfor, och uppfylla kraven i ROHS.
3) lågt skum, inget skumspill vid ultraljudsrengöring.
4) bra avfettningsprestanda för att möta kravet på högnoggrannhet IT-område.

3. Instruktioner
1) häll rent vatten i rengöringstanken till tre fjärdedelar, tillsätt sedan medel i 3% -5% koncentration, tillsätt vatten till arbetsnivån, värm sist badlösningen till arbetstemperatur.
2) måste byta badlösning helt efter avfettning av en viss mängd silikonskiva.
3) minska exponeringstiden i luft för att undvika oxidation.
4) arbetstemperatur 50-65 grader, kasseringstid: 2-5 minuter.

4. Anteckningar
1) solbaren kan inte röra vatten, behöver doppa i vätska eller avfettningsmedel om inte kan rengöras i tid.
2) måste kassera solbaren i tid så snart den kom in i avfettningsprocessen för att undvika lufttorkning.
3) håll solpanelen våt vid avsmutsning för att undvika lufttorkning.
4) för att undvika fragment, måste du stänga av bubbelbrytaren på no1 och no2 tanken vid ultraljudsavfettning, slå sedan på omkopplaren efter fixering.
5) måste byta tank nr 5.6 och 7 efter en cykel avfettning.
6) kiselskiva kan inte röras.Arbetarna måste arbeta med handskar för att undvika fingeravtryck.
7) för att uppnå släppningen måste du spraya kiselskiva minst 30 minuter innan avslamning.

5. Tillägg
1) förpackning: 20 kg/kartong (2 kg/flaska), 25 kg/plastfat, 1000 kg/fat
2) giltighetstid: ett år